Właściwości antyoksydacyjne neuroleptyków II generacji

Aktualne badania wskazują na główną rolę stresu oksydacyjnego we wczesnej fazie patogenezy schizofrenii. Stwierdzono m.in. silny związek neurobiologiczny między dysfunkcją układu dopaminergicznego, nadmierną aktywacją mikrogleju i stresem oksydacyjnym.

Różne czynniki ryzyka schizofrenii nasilają zjawiska stresu oksydacyjnego i w konsekwencji podnoszą ryzyko rozwoju psychozy. Stres oksydacyjny wywołany przez leki przeciwpsychotyczne I generacji, takie jak haloperidol, znacząco przyczynia się do rozwoju pozapiramidowych działań niepożądanych. Haloperidol ma również działanie neurotoksyczne – zmniejsza poziom enzymów antyoksydacyjnych i w efekcie zwiększa zdarzenia prooksydacyjne.

W przeciwieństwie do haloperidolu leki przeciwpsychotyczne II generacji (atypowe leki przeciwpsychotyczne), takie jak risperidon, klozapina i olanzapina, wykazują silne działanie przeciwutleniające w eksperymentalnych modelach schizofrenii poprzez zwiększanie aktywności układu antyoksydacyjnego, ze wzrostem poziomu dysmutazy ponadtlenkowej i glutationu (GSH) w surowicy. Leki przeciwpsychotyczne II generacji poprawiają również status antyoksydacyjny i zmniejszają peroksydację lipidów u pacjentów ze schizofrenią. Co ciekawe, leki przeciwpsychotyczne II generacji, takie jak risperidon, paliperydon, a zwłaszcza klozapina, zmniejszają stres oksydacyjny wywołany nadmierną aktywacją mikrogleju, zmniejszając wytwarzanie wolnych rodników i ostatecznie chroniąc neurony przed stresem oksydacyjnym wywołanym przez aktywowany mikroglej.

Ważne jest jednak prowadzenie dalszych długoterminowych badań klinicznych, aby lepiej zrozumieć związek między stresem oksydacyjnym a kliniczną odpowiedzią na leki przeciwpsychotyczne oraz potencjał terapeutyczny przeciwutleniaczy w celu zwiększenia odpowiedzi na leki przeciwpsychotyczne.

Źródło:
Caruso, G.; Grasso, M.; Fidilio, A.; Tascedda, F.; Drago, F.; Caraci, F. Antioxidant Properties of Second-Generation Antipsychotics: Focus on Microglia. Pharmaceuticals 2020, 13, 457. https://doi.org/10.3390/ph13120457, stan z dnia 3.07.2023.